9月1日晚間，蘇大維格(300331)發布公告稱，公司擬籌劃以現金方式收購常州維普半導體設備有限公司（下稱“常州維普”）不超過51%的股權，收購完成后，預計實現對標的公司的控股。
公告顯示，常州維普100%股權的整體估值暫定為不超過10億元（含），本次交易對價預計不超過5.10億元，最終估值以及本次交易對價最終以評估報告和正式簽署的收購協議為準。
蘇大維格提示，本次簽署的《股權收購意向協議》系各方就收購事宜達成的初步意向協議，屬框架性、意向性協議。本次交易尚處于籌劃階段，最終能否達成存在不確定性，后續具體事項以正式簽訂的協議為準。
值得一提的是，常州維普股東包含紅土一號基金及深創新資本，分別持有標的公司8.00%、2.00%股權，公司5%以上股東轉型升級基金以及紅土一號基金、深創新資本同受深圳市創新投資集團有限公司控制，因此，標的公司股東中紅土一號基金、深創新資本系公司關聯方。
公開資料顯示，蘇州蘇大維格科技集團股份有限公司的主營業務是微納光學產品的設計、開發與制造服務。公司的主要產品是公共安全材料、新型印刷材料、導光材料、柔性透明導電膜等。
縱觀近業績，蘇大維格已連續4年虧損，今年上半年凈利下滑。2021年至2024年，公司歸母凈利潤分別虧損3.5億元、2.79億元、0.46億元、0.58億元。
對于本次收購謀劃，蘇大維格展望，公司一直致力于積極拓展激光直寫光刻機在半導體掩模制造領域的量產應用和國產替代，潛在客戶群體和常州維普現有客戶體系基本重疊，收購常州維普，利用其現有客戶資源，有利于大大減少公司的客戶開發成本和產品驗證周期。
標的公司情況方面，常州維普主營產品為光掩模缺陷檢測設備（收入主要構成）和晶圓缺陷檢測設備的研發、生產和銷售，兩者均屬于半導體量檢測的核心設備。公司產品已進入國內頭部晶圓廠和國內外頭部掩膜版廠商的量產線。
光掩模（Photomask），又稱掩模、（光刻）掩膜版，光罩等，是微電子制造過程中圖形轉移的母版，是半導體、平板顯示等行業生產制造的關鍵核心材料。在光掩模缺陷檢測設備領域，設備國產率不足3%，國產替代尚在早期，空間巨大。
二級市場上，截至9月1日收盤，蘇大維格大漲8.37%報27.84元/股，最新市值72.29億元，今年來公司股價上漲近三成。
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